Protéger les opérateurs contre les nanoparticules

Dans l’industrie de la microélectronique, certains procédés nécessitent la mise en œuvre de particules de taille nanométrique. C’est notamment le cas de certaines étapes technologiques dont une par exemple met en œuvre une pâte abrasive contenant des nanoparticules (NP) de silice. Les opérations de maintenance de ces équipements peuvent conduire à la libération de NP dans les effluents de nettoyage et en suspension dans l’air respiré par les opérateurs. Suite au projet européen Nanostreem*, des industriels ont fait appel au CEA-Liten, institut de CEA Tech, pour réaliser des campagnes de mesure d’émissions de nanoparticules pendant ces phases de maintenance.

S’appuyant sur les moyens spécifiques de la plate-forme de nanosécurité (PNS), les experts du laboratoire ont réalisé des mesures en temps réel fournissant des informations fiables sur la concentration et la granulométrie des particules présentes dans l’air au niveau des postes de travail. Des mesures en laboratoire ont également été effectuées sur des prélèvements gazeux et liquides, pour une caractérisation fine de la chimie et de la morphologie des polluants sur la plate-forme de nanocaractérisation (PFNC) du CEA. En s’appuyant sur ces résultats et sur les constatations faites sur site, des recommandations HSE (Hygiène Sécurité Environnement) sont ensuite proposées aux industriels pour la mise en place de moyens de protection les plus adaptés aux opérateurs des procédés critiques.

Cette expertise, associée aux moyens de caractérisation adaptés, peut être déployée dans d’autres domaines applicatifs tels que le bâtiment, la cosmétique, l’agroalimentaire ou la pharmacie. Le laboratoire, qui compte 450 études de postes à son actif, conserve les données issues de ces campagnes de manière confidentielle pour alimenter des bases de données lui permettant d’affiner ses recommandations et développer des outils prédictifs.

*Nanomaterials Strategies for safety Assessment in advanced Integrated Circuits Manufacturing

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